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J-GLOBAL ID：200902184708429312   整理番号：96A0343096

電子ビームドーピング(EBD)による半導体表面拡散の研究 II

Study of semiconductor surface diffusion by electron beam doping (EBD). II.

著者 (8件)： 孫彪 (大同工大) ,  増田晴穂 (名古屋工技研) ,  安田匡一郎 (名古屋工技研) ,  藤本博 (大同工大) ,  三栗谷信雄 (大同工大) ,  和田隆夫 (大同工大) ,  山田芳靖 (日本電装 基礎研) ,  祖父江進 (日本電装 基礎研)
資料名： 電気関係学会東海支部連合大会講演論文集  (Record of Tokai-Section Joint Conference of the Six Institute of Electrical and Related Engineers)
巻： 1995  ページ： 204  発行年： 1995年09月 
JST資料番号： L1634A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ビーム ,  ドーピング ,  EBD ,  半導体表面 ,  拡散 ,  研究