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J-GLOBAL ID：200902185133227050   整理番号：98A0854727

反応性真空アーク蒸着法によって生成したアナターゼ型TiO₂膜の光学バンドギャップ

Optical Bandgap of Anatase TiO₂ Film Prepared by Reactive Vacuum Arc Depsition Method.

著者 (3件)： 滝川浩史 (豊橋技科大) ,  松井健晃 (豊橋技科大) ,  榊原建樹 (豊橋技科大)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 118-A  号： 7/8  ページ： 899-900  発行年： 1998年07月 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 反応性真空アーク蒸着法を用いてアナターゼ型TiO<sub>2...

シソーラス用語： 真空蒸着 ,...
準シソーラス用語： 禁止帯

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光化学一般  (CB08010U)

引用文献 (10件)：

• 橋本. 光触媒による環境浄化. 触媒. 1994, 36, 524
• 滝川. 反応性真空アーク蒸着法によるアナターゼ型TiO_2膜の生成. 電学論A. 1997, 117, 866
• H. Tang. Electrical and optical properties of TiO_2 anatase thin films. J. Appl. Phys. 1994, 75, 4, 2042
• R. Swanepoel. Determination of the thickness and optical constants of amorphous silicon. J. Phys. E: Sci. Instrum. 1983, 16, 1214
• N. Martin. Characterizations of titanium oxide films prepared by radio frequency sputtering. Thin Solid Films. 1996, 287, 154

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応性 ,  真空アーク蒸着 ,  アナターゼ ,  TiO2 ,  光学バンドギャップ