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J-GLOBAL ID:200902185278673059   整理番号:98A0285540

陰極にダイヤモンドを用いた直流プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成

Diamond Films Synthesized by DC Plasma CVD with a Diamond Cathode.
著者 (4件):
資料名:
巻: 49  号:ページ: 94-95  発行年: 1998年01月 
JST資料番号: G0441B  ISSN: 0915-1869  CODEN: HYGIEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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標記法で得た薄膜の膜質の評価と合成条件について検討した。基板...
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分類 (3件):
分類
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炭素とその化合物  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  合成鉱物 
引用文献 (6件):
  • DAVIS, Robert F. DIAMOND FILMS AND COATINGS. 1993, Chapter 4, p. 147
  • IHARA, M. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 1473
  • HIROSE, Y. Diamond Films and Technology. 1991, 1, 2, 85
  • 八田章光. 電学論A. 1997, 117, 3, 233
  • YOSHIKAWA, M. Appl. Phys. Lett. 1989, 55, 2608
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