低温の鉄薄膜-シリコン反応

BALDWIN N R; IVEY D G

文献

J-GLOBAL ID：200902185485190017 整理番号：96A0166021

低温の鉄薄膜-シリコン反応

Low temperature iron thin film-silicon reactions.

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資料名：
巻： 31 号： 1 ページ： 31-37 発行年： 1996年01月01日
JST資料番号： B0722A ISSN： 0022-2461 CODEN： JMTSAS 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Fe薄膜とSi基板との低温反応を研究した。鉄膜を,電子ビーム...

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物理的手法を用いた吸着の研究 , 半導体薄膜 , 塩

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