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J-GLOBAL ID：200902185584110165   整理番号：94A0256819

窒化膜を有するMIS構造の電気特性に及ぼす熱処理効果

Thermal Annealing Effects on Electric Characteristics of MIS Structures with Nitride Layers.
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著者 (4件)：
斎藤一成

斎藤一成 について

(日本大 理工)

日本大 理工 について

, 
高橋芳浩

高橋芳浩 について

(日本大 理工)

日本大 理工 について

, 
吉川正人

吉川正人 について

(原研 高崎研)

原研 高崎研 について

, 
大西一功

大西一功 について

(日本大 理工)

日本大 理工 について


資料名：
日本大学理工学部学術講演会講演論文集

日本大学理工学部学術講演会講演論文集 について


巻： 37th  ページ： 133-134  発行年： 1993年 
JST資料番号： G0609B  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
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窒化膜

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, 
MIS構造

MIS構造 について

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電気特性

電気特性 について

, 
熱処理

熱処理 について


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