文献
J-GLOBAL ID:200902185924881749
整理番号:93A0649336
SiH4とWF6を用いた選択W-CVDにおける気相反応の解析 希釈ガスの影響
Analysis of Gas-phase Reactions in Selective W-CVD Using SiH4 and WF6. Effects of a Carrier Gas.
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