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J-GLOBAL ID：200902185924881749   整理番号：93A0649336

SiH₄とWF₆を用いた選択W-CVDにおける気相反応の解析 希釈ガスの影響

Analysis of Gas-phase Reactions in Selective W-CVD Using SiH₄ and WF₆. Effects of a Carrier Gas.

著者 (4件)： 中村吉孝 (日立 中研) ,  小林伸好 (日立 中研) ,  五嶋秀和 (日立 中研) ,  本間喜夫 (日立 中研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 780  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiH4 ,  CVD ,  気相反応 ,  解析 ,  希釈ガス