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J-GLOBAL ID：200902186641754860   整理番号：01A0890953

けい素上での脱離イオン化質量分析 法医学における応用

Desorption-ionization on silicon mass spectrometry: an application in forensics.

著者 (4件)： THOMAS J J (Scripps Res. Inst., CA, USA) ,  SHEN Z (Univ. California, CA, USA) ,  BLACKLEDGE R (Naval Criminal Investigative Serv. Regional Forensic Lab., CA, USA) ,  SIUZDAK G (Scripps Res. Inst., CA, USA)
資料名： Analytica Chimica Acta  (Analytica Chimica Acta)
巻： 442  号： 2  ページ： 183-190  発行年： 2001年09月05日 
JST資料番号： A0394A  ISSN： 0003-2670  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si上での脱離イオン化(DIOS)は潜在的な妨害化合物が存在...

シソーラス用語： *ポリエチレンオキシド ,...

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分類 (2件)： 有機化合物の物理分析  (CC03034A) ,  法医学  (GA03000B)

タイトルに関連する用語 (6件)： けい素 ,  脱離 ,  イオン化 ,  質量分析 ,  法医学 ,  応用