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J-GLOBAL ID：200902187051537356   整理番号：95A0977261

直流パルスCF₄/H₂放電プラズマにおけるCF₂ラジカルの拡散係数の測定

Measurement of Diffusion Coefficient of CF₂ Radical in DC Pulsed CF₄/H₂ Discharge Plasma.

著者 (7件)： ARAI T (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  GOTO M (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  TAKAYAMA D (Toshiba Lighting & Technol. Corp., Yokosuka, JPN) ,  SHIMIZU T (Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN) ,  MURAKAMI M (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  HORIKOSHI K (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  FUJIOKA H (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 34  号： 10B  ページ： L1392-L1394  発行年： 1995年10月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レーザ誘導けい光法を直流パルスCF₄...

シソーラス用語： ラジカル ,...
準シソーラス用語： 四ふっ化炭素

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分類 (2件)： 放電一般  (BJ03010I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (13件)：

• GOTTSHO, R. A. Pure Appl.Chem. 1984, 56, 189
• BOOTH, J. P. Appl.Phys.Lett. 1987, 50, 318
• HANSEN, S. G. Appl.Phys.Lett. 1988, 53, 1588
• BOOTH, J. P. J.Appl.Phys. 1989, 66, 5251
• HANSEN, S. G. Appl.Phys.Lett. 1990, 56, 719

タイトルに関連する用語 (6件)： 直流 ,  パルス ,  H2 ,  放電プラズマ ,  ラジカル ,  拡散係数