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J-GLOBAL ID：200902187383511059   整理番号：00A0060713

スピンコーティング法による自己組織化シリカ薄膜の形成とメソ構造制御

Formation and mesostructure control of self-organized silica thin film by spin coating method.

著者 (6件)： 遠藤明 (物質工学工技研) ,  中岩勝 (物質工学工技研) ,  秋谷鷹二 (物質工学工技研) ,  大輪優 (物質工学工技研) ,  藤原一郎 (物質工学工技研) ,  中根尭 (物質工学工技研)
資料名： 日本産業技術振興協会技術資料
号： 288  ページ： 158-159  発行年： 1999年10月22日 
JST資料番号： Z0850A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： テトラエチルオルソシリケートの1-プロパノール,2-ブタノー...

シソーラス用語： *スピンコーティング ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (2件)： オルトけい酸テトラエチル ,  セチルトリメチルアミニウム

タイトルに関連する用語 (5件)： スピンコーティング法 ,  自己組織化 ,  シリカ ,  薄膜 ,  メソ構造