ゾル-ゲル法において相分離により調製された階層的細孔構造をもつNi/SiO<sub>2</sub>触媒

NAKAMURA N; TAKAHASHI R; SATO S; SODESAWA T; YOSHIDA S

文献

J-GLOBAL ID：200902187705993186 整理番号：00A1048151

ゾル-ゲル法において相分離により調製された階層的細孔構造をもつNi/SiO₂触媒

Ni/SiO₂ catalyst with hierarchical pore structure prepared by phase separation in sol-gel process.

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巻： 2 号： 21 ページ： 4983-4990 発行年： 2000年11月01日
JST資料番号： A0271C ISSN： 1463-9076 CODEN： PPCPFQ 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

アルコキシド原料を用い,平均分子量100000のポリエチレン...

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触媒の調製

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ゾル-ゲル法において相分離により調製された階層的細孔構造をもつNi/SiO2触媒

ゾル-ゲル法において相分離により調製された階層的細孔構造をもつNi/SiO₂触媒