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J-GLOBAL ID：200902187794396790   整理番号：01A0566318

ヘリコン波プラズマスパッタリング法によって作製したアンチモン薄膜の633nmにおける屈折率変化

Refractive indices change at 633nm of antimony thin films prepared by heliconwave-plasma sputtering method.
著者 (4件)：
SHIMA T

SHIMA T について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN について

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KIM J

KIM J について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN について

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TOMINAGA J

TOMINAGA J について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN について

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ATODA N

ATODA N について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Tsukuba, JPN について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)

Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films について


巻： 19  号： 3  ページ： 826-829  発行年： 2001年05月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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アンチモン(Sb)膜を標記方法によって作製した。Sb膜の屈折...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ヘリコン

ヘリコン について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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ヘリコン波プラズマ

ヘリコン波プラズマ について

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分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属薄膜 
(BK14030T)

金属薄膜 について

,  光物性一般 
(BM08010A)

光物性一般 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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ヘリコン波

ヘリコン波 について

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プラズマスパッタリング

プラズマスパッタリング について

, 
作製

作製 について

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アンチモン

アンチモン について

, 
薄膜

薄膜 について

, 
屈折率変化

屈折率変化 について


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