原子間力顕微鏡に使用する汚染チップの電子ビーム蒸着における作製パラメータの研究

文献

J-GLOBAL ID：200902189759614698 整理番号：94A0221406

Investigation of fabrication parameters for the electron-beam-induced deposition of contamination tips used in atomic force microscopy.

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資料名：
巻： 4 号： 3 ページ： 163-169 発行年： 1993年07月
JST資料番号： W0108A ISSN： 0957-4484 CODEN： NNOTER 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

電界放射電子顕微鏡における電子ビーム蒸着を利用し,アスペクト...

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顕微鏡法

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