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J-GLOBAL ID：200902189783642481   整理番号：99A0800165

FT-IR焼付けシステムを用いた深紫外リソグラフィのシミュレーションのためのパラメータの測定

Measurement of Parameters for Simulation of Deep UV Lithography Using a FT-IR Baking System.

著者 (4件)： SEKIGUCHI A (Litho Tech Japan Corp., Saitama) ,  MACK C A (FINLE Technol., TX) ,  ISONO M (Litho Tech Japan Corp., Saitama) ,  MATSUZAWA T (Litho Tech Japan Corp., Saitama)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3678  号： Pt.2  ページ： 985-1000  発行年： 1999年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ir ,  焼付け ,  深紫外 ,  リソグラフィ ,  シミュレーション ,  パラメータ