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J-GLOBAL ID：200902190603062413   整理番号：93A0490928

パルス電磁場刺激がインプラント材料表面の骨原性細胞株MC3T3-E1細胞に与える影響

Effect of Pulsing Electromagnetic Fields on the MC3T3-E1 Osteogenic Cell Line Cultured on the Implant Material Surface.

著者 (1件)： 広瀬由紀人 (東日本学園大 歯)
資料名： 日本口腔インプラント学会誌  (Journal of Japanese Society of Oral Implantology)
巻： 6  号： 1  ページ： 97 -107  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： G0262C  ISSN： 0914-6695  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 単結晶ならびに多結晶酸化アルミニウム,および純チタニウムの3...

シソーラス用語： 動物実験 ,...
準シソーラス用語： パルス電磁場 ,...

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分類 (1件)： 歯の基礎医学  (GT01020O)

引用文献 (55件)：

• 1) 飯塚哲夫:インプラントは夢の人工歯根か;歯界展望,77,117~145,1991.
• 2) 川原春幸:生物理工学について;DE,49,25~31,1979.
• 3) 今井弘一:多孔質セラミック材料内部への細胞侵入機構の解析(in vitro);インプラント誌,4,26~48,1982.
• 4) 永井教之:歯科インプラント・セラミックスの組織反応;日歯医師会誌,36,461~470,1983.
• 5) BRUNETTE, D.M.:The effects of implant surface topography on the behavior of cells;Int. J. Oral Maxillofac. Implants, 3, 231~246, 1988.

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  電磁場 ,  刺激 ,  インプラント材料 ,  細胞株 ,  MC3T3-E1細胞