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J-GLOBAL ID：200902190611047628   整理番号：93A0649204

ドライ酸化処理によるポーラスSiのマイクロ秒発光緩和の変化

Comparison of microsecond photoluminescence decay between as-prepared and dry-oxidized porous Si.

著者 (3件)： 高沢章 (富士通) ,  田村哲朗 (富士通) ,  山田雅雄 (富士通)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 40th  号： Pt 2  ページ： 708  発行年： 1993年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化処理 ,  ポーラス ,  Si ,  マイクロ秒 ,  緩和