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J-GLOBAL ID：200902192924286758   整理番号：94A0179974

赤外反射吸収測定法によるシリコン自然酸化膜の構造解析

Stractural Analysis of Silicon Native Oxides using FT-IR-RAS.

著者 (6件)： 小川洋輝 (富士通) ,  石川健治 (富士通) ,  猪股カルロス (富士通) ,  藤村修三 (富士通) ,  森治久 (富士通) ,  鈴木雅史 (富士通)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 54th  号： 2  ページ： 764  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 赤外反射 ,  測定法 ,  シリコン ,  自然酸化膜 ,  構造解析