文献
J-GLOBAL ID：200902193110875171   整理番号：93A0660287

Multiple-exposure interferometric lithography.

著者 (2件)：
ZAIDI S H

ZAIDI S H について

(Univ. New Mexico, New Mexico)

Univ. New Mexico, New Mexico について

, 
BRUECK S R J

BRUECK S R J について

(Univ. New Mexico, New Mexico)

Univ. New Mexico, New Mexico について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures について


巻： 11  号： 3  ページ： 658-666  発行年： 1993年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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