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J-GLOBAL ID:200902193303575183   整理番号:02A0628232

(1-102)r面サファイア基板上に成長した無極性(11-20)a面GaN薄膜の構造の特性化

Structural characterization of nonpolar (11<span style=text-decoration:overline>2-</span>0) a-plane GaN thin films grown on (1<span style=text-decoration:overline>1-</span>02) r-plane sapphire.
著者 (5件):
資料名:
巻: 81  号:ページ: 469-471  発行年: 2002年07月15日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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MOCVDを用いて高温の成長段階の前に低温の核形成層を生成し...
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体の表面構造 

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