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J-GLOBAL ID：200902193604169830   整理番号：98A0829754

単層カーボンナノチューブのためのメタンの化学蒸着

Chemical vapor deposition of methane for single-walled carbon nanotubes.

著者 (3件)： KONG J (Stanford Univ., CA, USA) ,  CASSELL A M (Stanford Univ., CA, USA) ,  DAI H (Stanford Univ., CA, USA)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 292  号： 4/6  ページ： 567-574  発行年： 1998年08月14日 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1000°C,担持Fe₂O<sub>3<...

シソーラス用語： 酸化鉄 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (3件)： 単層カーボンナノチューブ ,  メタン ,  化学蒸着