高温膜用の多孔質炭化けい素焼結体

SUWANMETHANOND V; GOO E; LIU P K T; JOHNSTON G; SAHIMI M; TSOTSIS T T

文献

J-GLOBAL ID：200902193909997679 整理番号：01A0061294

高温膜用の多孔質炭化けい素焼結体

Porous Silicon Carbide Sintered Substrates for High-Temperature Membranes.

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資料名：
巻： 39 号： 9 ページ： 3264-3271 発行年： 2000年09月
JST資料番号： C0385C ISSN： 0888-5885 CODEN： IECRED 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

3種の異なるSiC粉末原料及び4種の異なる焼結助剤:Al<s...

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膜分離 , セラミック・陶磁器の製造

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