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文献
J-GLOBAL ID:200902193947149258   整理番号:97A0730390

CaF2(薄膜)/Si(111)の軟X線放出分光分析 埋込界面の非破壊解析

Soft X-ray emission spectroscopy study of CaF2(film)/Si(111): non-destructive buried interface analysis.
著者 (6件):
資料名:
巻: 117/118  ページ: 434-437  発行年: 1997年06月 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高エネルギーの電子線を照射して,標記の非破壊分析を行った。一...
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分類 (1件):
分類
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その他の無機化合物の薄膜 

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