ポリシリコンTFT用積層ゲート絶縁膜のための初期光酸化過程

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J-GLOBAL ID：200902194612144258 整理番号：02A0466651

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巻： 49th 号： 2 ページ： 809 発行年： 2002年03月27日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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酸化物薄膜 , トランジスタ

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