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J-GLOBAL ID：200902194807000978   整理番号：95A0793800

Si(100)-2×1上のCsの表面拡散

Surface diffusion of Cs on Si(100)-2×1.

著者 (4件)： MILNE R H (Univ. Sussex, Brighton, GBR) ,  AZIM M (Univ. Sussex, Brighton, GBR) ,  PERSAUD R (Univ. Sussex, Brighton, GBR) ,  VENABLES J A (Univ. Sussex, Brighton, GBR)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 336  号： 1/2  ページ： 63-75  発行年： 1995年08月01日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si(100)2×1上の準単分子層(ML)Cs被覆(θ)の拡...

シソーラス用語： セシウム ,...
準シソーラス用語： SEM【電顕】

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分類 (2件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (3件)： Si ,  Cs ,  表面拡散