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J-GLOBAL ID：200902195550054350   整理番号：94A0111835

C₂H₆/O₂を用いたBiSrCaCuO薄膜のドライエッチング

Dry etching of BiSrCaCuO thin films using C₂H₆/O₂.

著者 (6件)： KOJIMA K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  OISHI T (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  KATAOKA M (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  KURODA K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  TAKAMI T (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  NUNOSHITA M (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名： 新機能素子シンポジウム予稿集  (新機能素子技術シンポジウム予稿集)
巻： 12th  ページ： 79-84  発行年： 1993年10月 
JST資料番号： L0184A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： O2 ,  薄膜 ,  ドライエッチング