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J-GLOBAL ID：200902196260853019   整理番号：99A0484017

ナノ秒パルス化エキシマレーザ照射により成長させたケイ素微小円柱のアレイ

Silicon microcolumn arrays grown by nanosecond pulsed-excimer laser irradiation.

著者 (3件)： PEDRAZA A J (Univ. Tennessee, Tennessee) ,  FOWLKES J D (Univ. Tennessee, Tennessee) ,  LOWNDES D H (Oak Ridge National Lab., Tennessee)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 74  号： 16  ページ： 2322-2324  発行年： 1999年04月19日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高アスペクト比のSi微小円柱(20μまでの長さ,2~3μまで...

シソーラス用語： 半導体薄膜 ,...

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分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノ秒パルス ,  エキシマレーザ ,  成長 ,  ケイ素 ,  微小 ,  円柱 ,  アレイ