高品質の水素化非晶質炭素の成長のためのプラズマパラメータの制御

文献

J-GLOBAL ID：200902197059181840 整理番号：01A0088205

Control of Plasma Parameters for High-Quality Hydrogenated Amorphous Carbon Growth.

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巻： 39 号： 11 ページ： 6427-6431 発行年： 2000年11月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

純粋なメタンを使う容量結合プラズマCVDによるa-C:Hの膜...

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半導体薄膜

引用文献 (23件)：

1) B. Bhushan: Tribology and Mechanics of Magnetic Storage Devices, ed. B. Bhushan (Springer, New York, 1996) 2nd ed. Chap. 8, p. 632.
2) K. Azuma, H. Shirai and T. Kochi: Thin Solid Films 296 (1997) 72.
3) S. Logothetidis, G. Stergioudis and N. Vouroutzis: Surf. & Coat. Technol. <B>100–101</B> (1998) 486.
4) K. Azuma, H. Inaba, K. Tasaka and H. Shirai: submitted to Jpn. J. Appl. Phys.
5) P. Koidl, Ch. Wild, B. Dischler, J. Wagner and M. Ramsteiner: Mater. Sci. Forum <B>52&53</B> (1989) 41.

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