文献
J-GLOBAL ID:200902197236287360
整理番号:00A0044330
FeSi薄膜の成膜と評価
Study of Nanostructured FeSi Films Deposited by the Cluster-Beam Technique.
-
出版者サイト
複写サービスで全文入手
-
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0044330&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L2435A") }}