文献
J-GLOBAL ID:200902197238138590 整理番号:97A0621278
超微量分析技術 半導体の二次イオン質量分析技術
Advanced Material Analysis Technologies. Secondary Ion Mass Spectrometry Techniques for Semiconductor Analysis.
出版者サイト
複写サービスで全文入手
{{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=97A0621278©=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで
{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0621278&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0360A") }}
著者 (2件):
富田充裕
富田充裕 について
名寄せID(JGPN) 200901100308042890 ですべてを検索
「富田充裕」ですべてを検索
(
東芝 研開セ
)
東芝 研開セ について
名寄せID(JGON) 202351000185206023 ですべてを検索
「東芝 研開セ」ですべてを検索
機関情報を見る
,
本郷智恵
本郷智恵 について
名寄せID(JGPN) 200901100512560655 ですべてを検索
「本郷智恵」ですべてを検索
(
東芝 研開セ
)
東芝 研開セ について
名寄せID(JGON) 202351000185206023 ですべてを検索
「東芝 研開セ」ですべてを検索
機関情報を見る
資料名:
東芝レビュー (Toshiba Review)
東芝レビュー について
JST資料番号 F0360A ですべてを検索
ISSN,ISBN,CODENですべてを検索
資料情報を見る
巻:
52
号:
6
ページ:
35-38
発行年:
1997年06月
JST資料番号:
F0360A
ISSN:
0372-0462
CODEN:
TORBA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
半導体デバイス技術の発展に伴い,深さ方向分解能,定量精度,軽...
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*二次イオン質量分析
二次イオン質量分析 について
「二次イオン質量分析」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,...
続きはJDreamIII(有料)にて
{{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0621278&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0360A") }}
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体デバイス計測・試験・信頼性
(NC03040G)
固体デバイス計測・試験・信頼性 について
分類コード NC03040G で文献を検索
分類コード4桁 NC03 で文献を検索
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
微量分析
微量分析 について
「微量分析」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
,
二次イオン質量分析
二次イオン質量分析 について
「二次イオン質量分析」ですべてを検索
この用語の用語情報を見る
前のページに戻る
TOP
BOTTOM