低温蒸着SrTiO<sub>3</sub>薄膜コンデンサを用いた新しいGaAs-MMICプロセス技術

NISHITSUJI M; TAMURA A; YAHATA K; SHIBUYA M; KITAGAWA M; HIRAO T

文献

J-GLOBAL ID：200902198086413554 整理番号：94A0657494

低温蒸着SrTiO₃薄膜コンデンサを用いた新しいGaAs-MMICプロセス技術

New GaAs-MMIC process technology using low-temperature deposited SrTiO₃ thin film capacitors.

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巻： 30 号： 13 ページ： 1045-1046 発行年： 1994年06月23日
JST資料番号： A0887A ISSN： 0013-5194 CODEN： ELLEAK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

RFマグネトロンスパッタ法を用いて200°Cで高ε低リーク電流...

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混成集積回路

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低温蒸着SrTiO3薄膜コンデンサを用いた新しいGaAs-MMICプロセス技術

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