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J-GLOBAL ID：200902198739383923   整理番号：00A0849134

非平衡プラズマ・ケミカルプロセスによるNO_X完全除去

Complete NO_X Removal Using Nonthermal Plasma and Chemical Processes.

著者 (4件)： 山本俊昭 (大阪府大 大学院) ,  大久保雅章 (大阪府大 大学院) ,  早川邦彦 (大阪府大 大学院) ,  北浦浩一 (大阪府大 大学院)
資料名： 静電気学会誌  (Journal of the Institute of Electrostatics Japan)
巻： 24  号： 4  ページ： 208-212  発行年： 2000年08月20日 
JST資料番号： S0175A  ISSN： 0386-2550  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 非平衡プラズマ反応器と化学反応器によるNO<sub>x</s...

シソーラス用語： *排ガス処理 ,...
準シソーラス用語： 非熱プラズマ ,...

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分類 (2件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (8件)：

• YANG, C. L. Chem. Eng. Comm. 1996, 143, 23
• KIM, H. H. Proceedings of 1997 IEEE-IAS, New Orleans, LA. 1997, 1937
• YAMAMOTO, T. Proceedings of 1997 IEEE-IAS, New Orleans, LA. 1997, 1956
• PENETRANTE, B. M. Task 1.1 Report for CRADA T. 1993
• PENETRANTE, B. M. Nonthermal Plasma Techniques for Pollution Control. 1993, 65

タイトルに関連する用語 (4件)： 非平衡プラズマ ,  ケミカル ,  プロセス ,  NOx