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J-GLOBAL ID:200902199106236170   整理番号:02A0409709

光触媒技術の新展開 新たな高機能性材料薄膜製造プロセスの開発

著者 (1件):
資料名:
巻: 41  号:ページ: 247-250  発行年: 2002年04月20日 
JST資料番号: F0163A  ISSN: 1340-2625  CODEN: MTERE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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従来のゾル-ゲル法を改良した新規酸化物薄膜製造法プロセスを開...
シソーラス用語:
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準シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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酸化物薄膜 
引用文献 (17件):
  • (1) 橋本和仁, 藤嶋昭: 酸化チタン光触媒のすべて, CMC (株),(1998).
  • (2) A. Fujishima, K. Hashimoto and T. Watanabe: TiO2 PHOTOCATAL YSIS, Fundamentals and Applications, Bkc a,(1999).
  • (3) 東レリサーチセンター編: 光触媒の最新技術動向,(1998), 56.
  • (4) 大石隆伸: 光触媒製品フォーラム,(2001), 21.
  • (5) 吉田隆: 最新光触媒技術,(株) エス・ティー・エヌ,(2000).
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