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J-GLOBAL ID：200902199374352906   整理番号：99A0278719

浸漬-ペンによる微小リソグラフィ

“Dip-Pen” Nanolithography.

著者 (5件)： PINER R D (Northwestern Univ., IL, USA) ,  ZHU J (Northwestern Univ., IL, USA) ,  XU F ,  HONG S (Northwestern Univ., IL, USA) ,  MIRKIN C A (Northwestern Univ., IL, USA)
資料名： Science  (Science)
巻： 283  号： 5402  ページ： 661-663  発行年： 1999年01月29日 
JST資料番号： E0078A  ISSN： 0036-8075  CODEN： SCIEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直接転写法であるDPN(Dip-Pen Nanolithog...

シソーラス用語： *原子間力顕微鏡 ,...
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 浸漬 ,  ペン ,  微小 ,  リソグラフィ