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J-GLOBAL ID：200902201447347170   整理番号：08A0943043

Nb低濃度保護層によるNb:TiO₂薄膜の導電性の酸素雰囲気における熱耐性向上

著者 (12件)： 中尾祥一郎 (KAST) ,  中尾祥一郎 (東大 大学院) ,  一杉太郎 (KAST) ,  一杉太郎 (東北大) ,  山田直臣 (KAST) ,  笠井淳平 (KAST) ,  廣瀬靖 (KAST) ,  廣瀬靖 (東大 大学院) ,  島田敏宏 (KAST) ,  島田敏宏 (東大 大学院) ,  長谷川哲也 (KAST) ,  長谷川哲也 (東大 大学院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 517  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化チタン ,  ドーピング ,  ニオブ ,  *保護膜 ,  *耐熱性 ,  化合物半導体 ,  透明導電膜 ,  *電気抵抗率 ,  焼なまし ,  レーザ蒸着 ,  基板 ,  半導体薄膜 ,  *電気伝導率 ,  パルスレーザ蒸着 ,  ガラス基板 ,  *二酸化チタン

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (8件)： Nb ,  低濃度 ,  保護層 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  導電性 ,  酸素雰囲気 ,  熱耐性