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J-GLOBAL ID：200902201448271797   整理番号：03A0506433

大気圧微小プラズマジェットを用いた材料の局所プラズマ処理

Localized Plasma Processing of Materials Using Atmospheric-Pressure Microplasma Jets

著者 (6件)： YOSHIKI H (Tsuruoka National Coll. of Technol., Yamagata, JPN) ,  IKEDA K (Tsuruoka National Coll. of Technol., Yamagata, JPN) ,  WAKAKI A (Uzen Parts, Yamagata, JPN) ,  TOGASHI S (Togashi Denshi Serv., Yamagata, JPN) ,  TANIGUCHI K (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  HORIIKE Y (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42  号： 6B  ページ： 4000-4003  発行年： 2003年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高周波(周波数13.56MHz,電力6~14W)のコロナ放電...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• 1) D. F. Weston, T. Smekal, D. B. Rhine and J. Blackwell: J. Vac. Sci. Technol. B19 (2001) 2846.
• 2) J. Kiihamaki and S. Franssila: J. Vac. Sci. Technol. A17 (1999) 2280.
• 3) Th. Arnold, G. Boehm and A. Schindler: J. Vac. Sci. Technol. A19 (2001) 2586.
• 4) J. Voigt, B. Reinker, I. W. Rangelow, G. Mariotto, I. Shvets, P. Guethner and H. Loschner: J. Vac. Sci. Technol. B17 (1999) 2764.
• 5) V. Kapicka, M. Sicha, M. Klima, Z. Hubicka, J. Tous, A. Brablec, P. Slavicek, J. F. Behnke, M. Tichy and R. Vaculik: Plasma Source Sci. Technol. 8 (1999) 15.

タイトルに関連する用語 (4件)： 大気圧 ,  微小 ,  プラズマジェット ,  プラズマ処理