文献

J-GLOBAL ID：200902201569935358   整理番号：04A0543782

極端紫外リソグラフィーに対するレーザ生成プラズマ光源開発

Laser-Produced Plasma Light Source Development for Extreme Ultraviolet Lithography

著者 (9件)： KOMORI H (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  SOUMAGNE G (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  ABE T (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  SUGANUMA T (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  IMAI Y (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  SOMEYA H (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  TAKABAYASHI Y (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  ENDO A (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN) ,  TOYODA K (Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc. (EUVA), Kanagawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 6B  ページ： 3707-3712  発行年： 2004年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代リソグラフィーに対するレーザ生成プラズマ光源開発につい...

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,...

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分類 (4件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源  (BD07020D) ,  レーザの応用  (BD04100V) ,  放射線による構造と物性の変化一般  (BK16121W)

引用文献 (21件)：

• 1) K. Ota: EUV Source Workshop, CD file, 05-Nikon presentation-Ota.PDF (Santa Clara, February, 2003).
• 2) V. Banine, J. Benschop, M. Leenders and R. Moors: Proc. SPIE 3997 (2000) 126.
• 3) V. Banine and R. Moors: Proc. SPIE 4343 (2001) 203.
• 4) H. Shields, S. W. Fornaca, M. B. Petach, M. Michaelian, R. D. McGregor, R. H. Moyer and R. S. Pierre: Proc. SPIE 4688 (2002) 94.
• 5) B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, S. Mosesson, J. Wallin and H. M. Hertz: Proc. SPIE 4688 (2002) 102.

タイトルに関連する用語 (4件)： 極端紫外 ,  リソグラフィー ,  レーザ生成プラズマ ,  開発