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J-GLOBAL ID：200902201605378045   整理番号：05A0250544

RFスパッタリングにより作製したPTFE薄膜のぬれ特性

Wettability of Polytetrafluoroethylene Thin Films by RF Sputtering

著者 (3件)： 岩森暁 (金沢大 大学院自然科学研究科) ,  山田良穂 (金沢大 大学院自然科学研究科) ,  池田和生 (金沢大 大学院自然科学研究科)
資料名： 材料の科学と工学  (Materials Science and Technology of Japan)
巻： 42  号： 1  ページ： 54-57  発行年： 2005年02月20日 
JST資料番号： G0788A  ISSN： 1347-4774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： RFスパッタリング装置を使用して,ポリテトラフルオロエチレン...

シソーラス用語： *ポリテトラフルオロエチレン ,...
準シソーラス用語： ぬれ角測定 ,...

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分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固-液界面  (CB12050B)

物質索引 (1件)： テトラフルオロエチレン

タイトルに関連する用語 (5件)： RFスパッタリング ,  作製 ,  PTFE ,  薄膜 ,  ぬれ