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J-GLOBAL ID:200902202057002810   整理番号:09A0041981

シリコン光電子増倍器の照射損傷研究

Radiation damage studies of silicon photomultipliers
著者 (11件):
資料名:
巻: 598  号:ページ: 722-736  発行年: 2009年01月21日 
JST資料番号: D0208B  ISSN: 0168-9002  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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次の3会社の製作したシリコン光電子増倍器(SiPM)の放射線硬度の測定について報告した:イタリアのFondazione Bruno Kessler(1及び6.2mm2),ロシアのPerspective Technology and Apparatusセンター(1及び4.4mm2)及び日本の浜松フォトニクス社(1mm2)。SiPMはMassachusetts総合病院の212MeV陽子ビームを用いて照射し,動作電圧で3×1010p/cm2までのフルエンスを受けた。漏れ電流は照射中連続的に測定した。陽子の配達は周期的に休止し,SiPMの利得,光子検出効率及び暗計数をモニタし,校正した光パルスに対してスコープトレースを記録した。漏れ電流と暗雑音はフルエンスと共に増加することが分かった。漏れ電流は雑音分布の平均二乗偏差に比例し,暗計数はランダムな個々のピクセル放射化のためであり,一方SiPMは光子検出機能を完全に保持していることが分かった。SiPMは約100日で因子2だけ漏れ電流の減少をもって室温でアニールすることも分かった。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体の放射線による構造と物性の変化  ,  素粒子・核物理実験技術一般 
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