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J-GLOBAL ID：200902202563848760   整理番号：06A0268567

ナフタセン配向膜の作製と表面プラズモン励起による評価

著者 (6件)： 島岡徹 (新潟大 工) ,  山下一希 (新潟大 工) ,  大平泰生 (新潟大 工) ,  新保一成 (新潟大 工) ,  加藤景三 (新潟大 工) ,  金子双男 (新潟大 工)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 53rd  号： 3  ページ： 1318  発行年： 2006年03月22日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *表面プラズモン ,...
準シソーラス用語： 全反射減衰法 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： ナフタセン

タイトルに関連する用語 (5件)： ナフタセン ,  配向膜 ,  作製 ,  プラズモン励起 ,  評価