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J-GLOBAL ID：200902202599014717   整理番号：08A0579112

「シリコン融液/石英ガラスの界面反応制御に関する研究」報告書

著者 (3件)： HUANG Xinming (東北大 金属材料研) ,  宇田聡 (東北大 金属材料研) ,  黄晋二 (東北大 金属材料研)
資料名： 東北大学金属材料研究所金属ガラス総合研究センター共同利用研究報告書
巻： 2006  ページ： 139-140  発行年： 2007年06月 
JST資料番号： L3700A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリカガラスるつぼ内表面に茶褐色のクリストバライトのリングが生成すると,Si単結晶の成長が不可能になることが知られている。一方,Baを添加すると白色のクリストバライト層が生成して,茶褐色リングが生成しなくなる。Ba添加シリカガラスとSi融液の界面における反応をその場観察し,白色と茶褐色の成長速度を測定した。さらに,Ba添加シリカガラスからクリストバライトの結晶化プロセスの活性化エネルギーを求めた。Ba濃度が30ppm以上なると,白色クリストバライトが生成する。これはBaの添加により,シリカガラスの結晶化プロセスにおける活性化エネルギーが減少し,結晶化速度が増加,茶褐色リングの成長に必要な酸素の溶解が阻止されるためである。

シソーラス用語： *石英ガラス ,  *ケイ素 ,  メルト ,  坩堝 ,  クリストバライト ,  単結晶 ,  成長速度 ,  活性化エネルギー ,  リング ,  白 ,  バリウム化合物 ,  結晶化 ,  反応機構 ,  ドーピング ,  バリウム添加合金 ,  Czochralski法
準シソーラス用語： シリカガラス ,  界面反応

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリコン融液 ,  石英ガラス ,  界面反応 ,  研究 ,  報告書