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J-GLOBAL ID：200902203311972782   整理番号：09A0023385

X線実験データに基づくIn₂₁Sb₇₉薄膜の構造に関するRMCモデリング

RMC Modeling on Structures of In₂₁Sb₇₉ Thin Film Based on X-ray Experimental Data

著者 (6件)： ARAI Takashi (National Defense Acad., Yokosuka, JPN) ,  TANI Katsuhiko (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  IWATA Noriyuki (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  TASHIRO Hiroko (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  SUZUKI Eiko (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  ITO Kazunori (RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名： Proceedings of the Symposium on Phase Change Optical Information Storage  (Proceedings of the Symposium on Phase Change Optical Information Storage)
巻： 20th  ページ： 8-13  発行年： 2008年 
JST資料番号： L1450A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： In₂₁Sb₇₉薄膜は,Sb二次元相変化物質の中で結晶化速度が最も高い。この薄膜の構造解析から,結晶と非晶質が存在しているが,インジウム原子のサイトが明確ではない。逆モンテカルロ法(RMC)を用いてIn₂₁Sb₇₉薄膜の構造について検討した。スパッタ蒸着によるポリカーボネート基板への膜厚2000nmのIn₂₁Sb₇₉薄膜の堆積実験,XRDやXAFSの測定結果を示した。また,RMCによる結晶相構造や非晶質相の構造解析を行い,三次元非晶質相のスナップショットなどの示した。この結果,実験データだけでは,結晶相や非晶質相のインジウム原子のサイトを決定できないが,結晶相はジグザグ歪立方格子構造であり,非晶質相のネットワークユニットの間隔は2.84Åであることが分かった。

シソーラス用語： *インジウム化合物 ,  アンチモン化物 ,  相転移 ,  記録材料 ,  *構造解析 ,  X線回折 ,  X線吸収 ,  モンテカルロ法 ,  モデリング ,  データ解析 ,  *蒸着膜 ,  スパッタ蒸着 ,  非晶質 ,  レーザ記録 ,  光ディスク ,  シミュレーション ,  膜厚
準シソーラス用語： *逆モンテカルロ法 ,  相変化光ディスク ,  立体格子

分類 (3件)： 固相転移  (BL04020G) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： X線 ,  実験データ ,  薄膜 ,  モデリング