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J-GLOBAL ID：200902203563384018   整理番号：07A0093504

電子温度を制御したH₂ ECRプラズマにおけるイオンおよびラジカルの生成

Production of Ions and Radicals in H₂ ECR Plasma with Controlled Electron Temperature

著者 (3件)： MUTA H. ,  THANG D.H. ,  MORINO K. (Kyushu Univ.)
資料名： Annual Report of National Institute for Fusion Science  (Annual Report of National Institute for Fusion Science)
巻： 2005-2006  ページ： 339  発行年： 2006年11月 
JST資料番号： J0552A  ISSN： 0917-1185  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子温度 ,  H2 ,  ECRプラズマ ,  イオン ,  ラジカル