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J-GLOBAL ID：200902204552542467   整理番号：04A0344592

イオンマイクロビーム照射によるシリカガラスの微細構造変化

著者 (9件)： 中村知晴 (早稲田大 理工) ,  柳崇 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  深川一成 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  渡辺英紀 (東京都大 工) ,  及川将一 (原研 高崎研) ,  神谷富裕 (原研 高崎研) ,  荒川和夫 (原研 高崎研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 51st  号： 2  ページ： 986  発行年： 2004年03月28日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *石英ガラス ,...

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分類 (2件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (4件)： イオン ,  マイクロビーム照射 ,  シリカガラス ,  微細構造