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J-GLOBAL ID：200902204660812209   整理番号：08A0876888

イオンビーム飛程近傍における阻止能とグラフト率とラジカル密度の関係

著者 (4件)： 谷池晃 (神戸大) ,  喜田康友 (神戸大) ,  古山雄一 (神戸大) ,  北村晃 (神戸大)
資料名： 日本原子力学会秋の大会予稿集(CD-ROM)  (日本原子力学会秋の大会(CD-ROM))
巻： 2008  ページ： I26  発行年： 2008年08月21日 
JST資料番号： S0818B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イオンビームグラフト重合法を用いた機能性ポリマーの作製に関する研究を行っている。エネルギーが数百keVのイオンビームの飛程近傍における阻止能とグラフト率とラジカル密度に関する関係について,ビーム照射時の素過程やグラフト重合反応の過程を考慮して検討を行った。(著者抄録)

シソーラス用語： イオンビーム ,  ポリエチレン ,  *放射線重合 ,  ラジカル反応

分類 (1件)： 放射線高分子化学  (CG03050S)

タイトルに関連する用語 (6件)： イオンビーム ,  飛程 ,  近傍 ,  阻止能 ,  グラフト率 ,  ラジカル密度