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J-GLOBAL ID：200902205093164744   整理番号：05A0812830

洗浄技術・装置・純水・薬液《洗浄技術・装置・純水・薬液の最前線》新材料に対応した洗浄技術の開発が進む 薬液や機能水の開発も新たなステージへ

著者 (1件)： 西山和敏
資料名： Electronic Journal  (Electronic Journal)
号： 138  ページ： 108-109  発行年： 2005年09月15日 
JST資料番号： L5481A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 新技術の導入に伴い,新しい洗浄技術の確立やそれに対応する薬液...

シソーラス用語： *超LSI ,...
準シソーラス用語： 枚葉処理 ,...

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  集塵  (XD02100D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 洗浄 ,  純水 ,  新材料 ,  開発 ,  機能水 ,  ステージ