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J-GLOBAL ID：200902205111418104   整理番号：06A0144416

凝縮ホルムアミドからの光子刺激イオン脱離における直接的過程と間接的過程

Direct and indirect processes in photon-stimulated ion desorption from condensed formamide

著者 (6件)： IKEURA-SEKIGUCHI H. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  SEKIGUCHI T. (Japan Atomic Energy Res. Inst. (JAERI), Naka, JPN) ,  BABA Y. (Japan Atomic Energy Res. Inst. (JAERI), Naka, JPN) ,  IMAMURA M. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  MATSUBAYASHI N. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  SHIMADA H. (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 593  号： 1-3  ページ： 303-309  発行年： 2005年11月20日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 凝縮 ,  ホルムアミド ,  光子 ,  刺激 ,  イオン ,  脱離 ,  過程 ,  間接