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J-GLOBAL ID：200902205365218318   整理番号：03A0344586

分子ビーム質量分析と飛行時間法を用いた,AlNとXeF₂蒸気との熱的反応からの脱着生成物の同定

Identification of Desorption Products from the Thermal Reaction of AlN with XeF₂ Vapor Using Molecular Beam Mass Spectrometry and a Time-of-Flight Technique.

著者 (8件)： WATANABE M (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  IIDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AKIYAMA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  NARITA S (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIKAWA T (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAKAI H (NGK INSULATORS, LTD., Nagoya, JPN) ,  SAWABE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SHOBATAKE K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 42  号： 4A  ページ： L356-L358  発行年： 2003年04月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記方法を用い,試料温度範囲T_s=68...

シソーラス用語： *質量分析 ,...

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分類 (1件)： その他の無触媒反応  (CB06070U)

引用文献 (22件)：

• 1) S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagaharma, I. Naruhito, T. Matsushita and T. Mukai: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 22.
• 2) S. Nakamura: J. Cryst. Growth 201/202 (1999) 290.
• 3) F. A. Khan, L. Zhou, V. Kumar, I. Adesida and R. Okojie: Mater. Sci. Eng. B 95 (2002) 51.
• 4) S. A. Smith, C. A. Wolden, M. D. Bremser, A. D. Hanser, R. F. Davis and W. V. Lampert: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3631.
• 5) M. S. Feng, J. D. Guo, Y. M. Lu and E. Y. Chang: Mater. Chem. Phys. 45 (1996) 80.

タイトルに関連する用語 (10件)： 分子ビーム ,  質量分析 ,  飛行時間法 ,  AlN ,  XeF2 ,  蒸気 ,  熱的反応 ,  脱着 ,  生成物 ,  同定