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J-GLOBAL ID：200902206381609439   整理番号：09A0040105

PDMSマイクロ流体素子内での酸素禁止ラジカル光重合のモデリング

Modeling of Oxygen-Inhibited Free Radical Photopolymerization in a PDMS Microfluidic Device

著者 (6件)： DENDUKURI Dhananjay (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  PANDA Priyadarshi (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  HAGHGOOIE Ramin (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  KIM Ju Min (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  HATTON T. Alan (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  DOYLE Patrick S. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 41  号： 22  ページ： 8547-8556  発行年： 2008年11月25日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： PDMSマイクロ流体素子内でのラジカル光架橋重合に及ぼす大気酸素の影響を理論モデルと実験により調べた。PDMSからの拡散大気酸素により,光照射開始後にはまずPDMS壁面に未架橋オリゴマ薄膜(膜厚;δ)が形成され,この酸素が消費された後に架橋重合が始まるために,誘導期間τが存在した。重合は素子中心から外側方向に成長したが,壁面の未架橋オリゴマ薄膜は残存した。簡素化した反応-拡散モデルから,τ~Da^-1及びδ~Da^-1/2(Da;Damkoehler数)のスケーリング相関を得,完全解と実験データからこれらの相関性を確認した。実験データを光開始剤の存在下でのポリエチレングリコールジアクリレートの架橋重合により得た。生成粒子サイズに及ぼす照射時間,照射強度,開始剤濃度,チャンネル高さなどのパラメータの影響を調べた。

シソーラス用語： *流体素子 ,  ポリジメチルシロキサン ,  ラジカル重合 ,  *光重合 ,  架橋重合 ,  酸素 ,  重合抑制剤 ,  オリゴマ ,  待ち時間 ,  スケール則 ,  拡散 ,  Damkoehler数 ,  解析モデル ,  数値計算 ,  *ポリエチレングリコールジアクリレート ,  光開始剤 ,  膜厚 ,  ポリアクリル酸エステル ,  *マイクロ流体デバイス ,  マクロモノマ
準シソーラス用語： マクロマ

分類 (1件)： 単独重合  (CG04020S)

物質索引 (1件)： 1-フェニル-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパノン

タイトルに関連する用語 (7件)： PDMS ,  マイクロ流体素子 ,  酸素 ,  禁止 ,  ラジカル ,  光重合 ,  モデリング