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J-GLOBAL ID：200902206789258448   整理番号：05A0244101

エバネセント波の干渉を用いたアゾ色素薄膜上の表面レリーフ格子の作成

Fabrication of surface relief gratings on azo dye thin films utilizing an interference of evanescent waves

著者 (6件)： OHDAIRA Y (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  HOSHIYAMA S (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  KAWAKAMI T (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  SHINBO K (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  KATO K (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  KANEKO F (Niigata Univ., Niigata, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 86  号： 5  ページ： 051102.1-051102.3  発行年： 2005年01月31日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 入射レーザ波長の半分以下の210nm幅で,標記の表面レリーフ...

シソーラス用語： 光干渉 ,...

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： エバネセント波 ,  干渉 ,  アゾ色素 ,  薄膜 ,  表面レリーフ格子