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J-GLOBAL ID：200902207290790366   整理番号：06A0714306

電子ビーム蒸着法により石英ガラス上に作製したGaSeの薄膜成長と光学的性質

Growth and Optical Property of GaSe Thin Film on Silica Glass Fabricated by Electron Beam Deposition

著者 (4件)： 大山昌憲 (サンバック) ,  伊藤浩 (東京工高専) ,  佐藤有紀 (名古屋大 工) ,  竹内学 (茨城大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 57  号： 9  ページ： 664-669  発行年： 2006年09月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子ビーム蒸着法で作製したGaSe薄膜について,石英ガラス基...

シソーラス用語： *電子ビーム蒸着 ,...
準シソーラス用語： 結晶性

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光物性一般  (BM08010A)

引用文献 (11件)：

• 1) A. Mercier, E. Mooser and J. P. Voitchovsky ; J. Lumin., 7, 241 (1973).
• 2) N. Kojima, K. Sato, M. Budiman, A. Yamada, M. Konagai, K. Takahashi, Y. Nakamura and O. Nittono ; J. Crystal Growth,150, 1175 (1995).
• 3) L. E. Rumaner, J. L. Gray and F. S. Ohuchi ; J. Crystal Growth,177, 17 (1997).
• 4) N. Kambe ; J. Appl. Phys., 15, 2697 (1991).
• 5) R. Rudolph, Y. Tomm, C. Pettenkofer, A. Klein and W. Jaegermann ; Appl. Phys. Lett., 76, 1101 (2000).

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子ビーム蒸着 ,  石英ガラス ,  作製 ,  GaSe ,  薄膜成長 ,  光学的性質