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J-GLOBAL ID：200902207336546945   整理番号：03A0655075

RFマグネトロンスパッタ法における磁場分布がFeSi2+x薄膜の熱電性能に与える影響

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著者 (5件)：
鎌田康一郎

鎌田康一郎 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について

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安西英則

安西英則 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について

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杉田将人

杉田将人 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について

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及川靖

及川靖 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について

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尾崎肇

尾崎肇 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 64th  号： 1  ページ： 160  発行年： 2003年08月30日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
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マグネトロンスパッタリング

マグネトロンスパッタリング について

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Seebeck係数

Seebeck係数 について

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分類 (2件)：
分類
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その他の無機化合物の電気伝導 
(BM03044O)

その他の無機化合物の電気伝導 について

,  酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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RFマグネトロンスパッタ法

RFマグネトロンスパッタ法 について

, 
磁場分布

磁場分布 について

, 
薄膜

薄膜 について


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